無需真空環境！大氣等離子清洗機，開啟常壓精密清洗新時代

在制造領域，精密清洗一直是影響產品良率和性能的關鍵環節。傳統濕法清洗依賴化學溶劑，存在污染大、殘留多的問題；而真空等離子清洗雖然效果優異，卻受限于設備成本高、處理效率低，難以滿足大規模生產需求。  

今天，隨著大氣等離子清洗機的成熟應用，這一行業難題迎來革命性突破！  

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一、為什么說“無需真空”是性創新？  

1. 打破真空設備枷鎖  

傳統等離子清洗需抽真空至10?2P別，耗時長達30分鐘以上。大氣等離子技術直接在常壓下電離氣體生成活性粒子，省去真空腔體和抽氣系統，實現“即開即用”。  

2. 生產效率提升5倍  

以電子封裝行業為例：真空設備單次處理需40分鐘（含抽真空時間），而大氣等離子機可連續傳送工件，單件處理時間縮短至3-8分鐘，產能直線上升。  

3. 綜合成本直降60%  

無需真空泵維護、無廢液處理費用，電能消耗僅為同類真空設備的1/3，尤其適合中小企業降本增效需求。  

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二、大氣等離子清洗機能做什么？ 

? 納米級清潔  

通過高活性等離子體束，精準去除金屬、陶瓷、聚合物表面的有機污染物（油脂、助焊劑等），清潔精度達納米級，滿足半導體、光學鏡片等超精密需求。  

? 表面活化改性  

在常壓下實現材料表面能提升（如塑料件親水性增強），解決復合材料粘接、涂層附著力等工藝痛點，廣泛應用于新能源電池隔膜處理、制造。  

? 三維件無損處理  

自由調節的等離子噴槍可360°覆蓋異形件（如螺紋孔、精密齒輪），解決傳統清洗的死角難題。